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ZEISS一百多年的驕人歷史從發(fā)明世界上首臺顯微鏡開始。一個世紀后的今天，ZEISS仍致力于為用戶研發(fā)創(chuàng)造力的顯微鏡系列產品。通過我們不斷改進的顯微技術，我們正在為全世界的用戶開拓一條探索微觀世界的道路。今天的顯微鏡與以往相比，它們的成像質量更好、效率更高、機械性能更加穩(wěn)定，并且更加環(huán)保。

總體描述

Stemi 508是一款采用Greenough光路設計的高效實用型體視顯微鏡，具有堅固耐用的特點。 其配備的復消色差光學元件令圖像具有出色的色彩精度和均勻性。 精密機械裝置專為任務繁重的工作而設計。8:1的大變倍比讓您能夠獲得36 mm的視野， 再借助高達50倍的放大倍率獲得更多的細節(jié)信息。 通過增加可更換式光學元件，可觀察最大122 mm的樣品。相比于其它采用Greenough光路設計的體視顯微鏡，Stemi 508更符合人體工學設計：35°低視角能讓您以舒服的坐姿觀察，即便長時間使用也不會感到疲勞。 使用Stemi 508觀察和記錄樣品本貌：豐富的細節(jié)信息、圖像清晰、無變形或無彩色條紋。 它是日常實驗室和工業(yè)檢測工作中一款堅固耐用的得力工具。

產品特點

1、大視野和復消色差校正

Stemi 508 擁有復消色差變倍光學元件與高效雜散光抑制功能，讓您能夠獲得清晰的三維圖像，無變形且無彩色條紋。

高達121 mm的觀察視野。8:1的變倍比使樣品的細微結構在高襯度下清晰可見。

可更換的復消色差前置光學元件和目鏡，使放大倍率可達2×至250×。 分辨率提高兩倍或擁有高達287 mm的長工作距離，并且始終保持出色的圖像質量——一切取決于您。

2、專為繁重工作設計的精密儀器

Stemi 508 具有堅固耐用的機械特性，適合繁重的工作。

獲得出色的三維圖像：無論是連續(xù)變倍或在可重復模式下啟用變倍調節(jié)器，均能在整個放大倍率范圍內清晰地聚焦圖像。

相比于其它采用Greenough光路設計的體現顯微鏡，Stemi 508的35°低視角設計更符合人體工學。 舒服的坐姿使您長時間使用顯微鏡也不會感到疲勞。

3、為您的所有應用量身定制

無論是高效實用型主機架或靈活穩(wěn)定的萬向主機架，透射光或偏光，均可滿足您的應用需求。

裝配滑動載物臺、傾斜式載物臺或旋轉偏光載物臺精準定位樣品。

Stemi 508 doc 包含一個c型適配器，可方便安裝蔡司Axiocam相機——或者使用其它適配器連接安裝任一款單反相機或攝像機

K型主機——高效實用、一體化設備、內置照明光源

K型主機占地面積小且集成了LED光源，這使Stemi 508成為高效實用型的一體化設備。操作方便，裝卸快捷。

K EDU型主機是課堂教學的理想之選，扁平的透射光底座適用于明場和暗場。

K LAB 型主機通過可傾斜和可移動的透射光反射鏡，提供明場、單側暗場和斜照明。此外，還有偏光可選。

K MAT 型主機，優(yōu)化了Stemi 508在質量控制或小型零部件裝配應用中的設計，可控制反射光，機身有防靜電涂層。

N型主機架——設計精良的主機架、載物臺、性能優(yōu)良的光纖元件

N 型主機架配有大型底座、350或450 mm高的顯微鏡支柱及Stemi連接件，通過大占地面積或增加高度來實現樣品的精準聚焦。

Stemi 508 可選配萬向式載物臺、滑動式載物臺和旋轉偏光載物臺，來傾斜、移動或旋轉樣品。

CL4500 LED 型冷光源可提供日光色，尤其適用于色彩要求嚴格的應用。 為獲得特殊的照明，可選環(huán)形光以獲得無陰影的明場或暗場照明；單點和雙點光源以獲得具有不同陰影效果的照明；線形光源以獲得落射照明；漫射光源以避免高亮度照明；與偏光組件組合可消除反射。

萬向主機架——穩(wěn)定、靈活、大工作距離

使用萬向主機架觀察大型樣品，在感興趣的區(qū)域內查找和檢測樣品細節(jié)，或在工作場地快速靈活地調整顯微鏡的位置。

配有伸長臂的大型主機架使Stemi 508能夠移至工作區(qū)域內的任意位置。 并始終保持足夠的穩(wěn)定性，以流暢穩(wěn)定的圖像獲得樣品的細節(jié)。

選擇配有單伸長臂的A型萬向主機架或配有雙伸長臂的穩(wěn)定且方便移動 的滾珠軸承式SDA型萬向主機架。 或者選配有彈簧平衡傾斜臂的U型主機架，其高度和靈活性得到很好地平衡，可移動至大型樣品的任一點位置。

技術參數

1、總放大倍率：6.3-50x可選2x-250x

2、變倍比：8:1

3、目鏡：10x

4、 光源：集成的LED光源

5、 數字化平臺：可配數字相機，計算機，圖像分析軟件

產品應用

1、材料檢測：檢測材料的裂紋和缺陷。用于檢測金屬或復合材料的組織結構、失效分析等。

2、微電子技術領域：在高倍下檢測集成電路，要求具有充足的工作距離。

3、半導體行業(yè)：芯片刻蝕后檢測探針的布局和排序，保證一流的大景深3D成像。

4、醫(yī)學技術：檢測模制品的微小偏差（醫(yī)用導管、O型環(huán)、心臟起搏器等）——要求在高倍下觀察，并具有足夠的工作距離。

5、藥物：檢測雙折射蛋白晶體的形成；檢測粉狀物質的純凈度和不規(guī)則組織。

6、琉璃纖維技術：涂層檢測；小型機械零部件的幾何形態(tài)測定；微型透明導體成像，保證高分辨率和完善的色差較正。

7、法醫(yī)學：織物、頭發(fā)和其他痕跡的分析；粉狀物質（藥）的檢測和分析，以用于鑒定真實情況。

8、文物修復：鑒定和處理顏料涂層；大樣品上的顏料殘留物分析、鑒定——要求具有高分辨率、較好的對比度，以區(qū)分輕微的結構偏差和真實的色彩。