1. 無級調(diào)速控制
2. 下方配有吸塵裝置,可吸走磨削物
3. 安全鎖扣,1/4磨面,保護操作員
適用于光譜研究的試樣磨平。
在金相試樣制備和光譜分析應用中,試樣的磨平是金相制樣和光譜分析前必不可少的重要工序。GPM-2-300型光譜磨平機整機采用噴塑工藝制作,雙盤獨立控制,磨盤無級調(diào)速,獨特罩殼設計可有效保障磨樣安全,機箱內(nèi)裝有吸塵裝置可避免環(huán)境污染,該機啟動平穩(wěn)、傳動功率大、噪音低,可滿足不同材料的制備要求,提高試樣的磨拋質(zhì)量和制備效率,是一種非常理想和功能完善的金相制樣制備。
型號 |
GMP-2-300 |
磨盤直徑 |
300mm |
砂紙直徑 |
300mm |
轉(zhuǎn)速 |
無級調(diào)速100~1400r/min 或四檔速300, 600, 900, 1400 r/min |
轉(zhuǎn)向 |
順時針或逆時針 |
電機功率 |
550W |
顯示及操作 |
數(shù)碼管顯示,薄膜按鍵操作,帶吸塵裝置 |
輸入電源 |
單相220V, 50Hz, 10A |
外形尺寸 |
820×440×940mm |
凈重 |
122kg |